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未來(lái)近場(chǎng)靜電紡絲的研究方向

更新時(shí)間:2018-01-22      點(diǎn)擊次數(shù):2289

來(lái)源:電紡期刊

 

近年來(lái),越來(lái)越多的材料通過(guò)近場(chǎng)靜電紡絲技術(shù)被制備成微納米纖維,應(yīng)用領(lǐng)域也越來(lái)越寬廣。但受到探針針尖蘸取量的限制,近場(chǎng)電紡不能進(jìn)行連續(xù)大規(guī)模的制備微納米纖維。

 

此外,紡絲液形成的泰勒錐與收集板間有限的距離導(dǎo)致纖維在電場(chǎng)中劈裂、拉伸和細(xì)化的程度不夠,使所得纖維直徑偏大,達(dá)不到納米級(jí)別。這些成為近場(chǎng)電紡發(fā)展初期限制其應(yīng)用的主要因素,同時(shí)也是我們未來(lái)的研究方向。

 

因此,近場(chǎng)靜電紡絲的未來(lái)的研究主要集中在:近場(chǎng)電紡的理論研究;電紡絲形貌的可重復(fù)制備,包括均一性、有序性以及新型結(jié)構(gòu)的制備;近場(chǎng)電紡絲在光電子器件、微流控芯片和生物檢測(cè)等領(lǐng)域的應(yīng)用。

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